什么是準(zhǔn)分子雷射 (Excimer Laser )
發(fā)布時(shí)間：2018-01-03 12:18瀏覽次數(shù)：
所謂準(zhǔn)分子雷射（Excimer Laser），是指在雷射的介質(zhì)中，使用稀有氣體和鹵素等混合氣體的紫外線(xiàn)（UV）雷射，具代表性的例子有ArF準(zhǔn)分子雷射（波長(zhǎng)193nm）、KrF準(zhǔn)分子雷射(波長(zhǎng)248nm)、XeCl準(zhǔn)分子雷射（波長(zhǎng)308nm）、XeF準(zhǔn)分子雷射（波長(zhǎng)351nm）。
上海漢璽電子科技為臺(tái)灣知名CYMER laser 翻新廠家在中國(guó)內(nèi)地授權(quán)代理商，所有的CYMER parts 均來(lái)自臺(tái)灣翻新工廠，提供和原廠一樣的warranty 服務(wù)。由臺(tái)灣和中國(guó)內(nèi)地分別提供專(zhuān)業(yè)的service 安裝調(diào)試服務(wù)。
準(zhǔn)分子雷射的應(yīng)用例 準(zhǔn)分子雷射散發(fā)的紫外光，擁有高光子能量以及非常高的尖峰功率，非常具有魅力，因此各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域都在進(jìn)行這種強(qiáng)烈光線(xiàn)的應(yīng)用研究。舉例來(lái)說(shuō)，像是雕刻CO2雷射和YAG雷射所無(wú)法應(yīng)付的材料、高分子膜和半導(dǎo)體薄膜等的剝離加工、鐵氟龍等樹(shù)脂的表面改質(zhì)、摻雜或沉積等半導(dǎo)體製造過(guò)程的應(yīng)用，以及TSV的穿孔等。 其中最成功的例子之一是，半導(dǎo)體製程當(dāng)中微影（Lithography）技術(shù)所用的光源。
此外，近年來(lái)伴隨著液晶的高度精細(xì)化，製造液晶用的雷射退火也受到矚目。這在製造多結(jié)晶低溫多晶硅（LTPS=Low Temperature Poly-silicon）的過(guò)程中，是不可或缺的工序。
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EXCIMER Laser 實(shí)驗(yàn)室和庫(kù)存
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